Germanium- and silicon-doped indium-oxide thin films prepared by radio-frequency magnetron sputtering - 科研通

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标题	Germanium- and silicon-doped indium-oxide thin films prepared by radio-frequency magnetron sputtering 射频磁控溅射制备锗硅掺杂氧化铟薄膜相关领域锗兴奋剂材料科学电阻率和电导率铟硅氧化铟锡溅射沉积溅射薄膜锡霍尔效应分析化学（期刊）光电子学氧化物冶金纳米技术化学电气工程工程类色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/1.111894
DOI	10.1063/1.111894 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Toshiro Maruyama; Teruoki Tago 出版日期：1994-03-14
求助人	生动茗茗在 2024-11-07 14:08:20 发布自福建，悬赏 10 积分
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