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 On the Mechanism of ITO Etching in Halogen Acids: The Influence of Oxidizing Agents 卤素酸中ITO腐蚀机理的研究：氧化剂的影响
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：J. E. A. M. van den Meerakker; P. C. Baarslag; Monica Scholten 出版日期：1995-07-01 |
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