Displacement criterion for amorphization of silicon during ion implantation

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标题	Displacement criterion for amorphization of silicon during ion implantation 离子注入过程中硅非晶化的位移判据相关领域离子注入硅材料科学退火（玻璃）硼无定形固体离子格子（音乐）凝聚态物理流离失所（心理学）结晶学分子物理学原子物理学化学冶金物理有机化学声学心理学心理治疗师
网址	https://doi.org/10.1063/1.328688
DOI	10.1063/1.328688 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：L. A. Christel; J. F. Gibbons; T. W. Sigmon 出版日期：1981-12-01
求助人	徐一一在 2024-10-10 14:43:16 发布自北京，悬赏 10 积分
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