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标题
Low-temperature etching of silicon oxide and silicon nitride with hydrogen fluoride
氟化氢低温刻蚀氧化硅和氮化硅
相关领域
蚀刻（微加工） 材料科学 氟化氢 硅 机车 氧化物 氮化硅 氮化物 氢 氧化硅 氟化物 光电子学 工程物理 无机化学 纳米技术 化学 冶金 图层（电子） 工程类 有机化学
网址
https://doi.org/10.1116/6.0004019
DOI
10.1116/6.0004019 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Thorsten Lill; Mingmei Wang; Dong‐Jun Wu; Youn-Jin Oh; Tae‐Won Kim; et al
出版日期：2024-11-18
求助人
芬里尔 在 2024-12-23 15:13:33 发布自上海，悬赏 10 积分
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