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 Low-temperature etching of silicon oxide and silicon nitride with hydrogen fluoride 氟化氢低温刻蚀氧化硅和氮化硅
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Thorsten Lill; Mingmei Wang; Dong‐Jun Wu; Youn-Jin Oh; Tae‐Won Kim; et al 出版日期：2024-11-18 |
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