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![]() 通过控制光致抗蚀剂-底层混合来设计极紫外负性显影光刻工艺的底层材料
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期刊:Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者:Seung Won Han; Eunkyoung Byun; Sukmin Kim; H. J. Lee; Jinsuob Yoon; et al 出版日期:2024-12-31 |
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