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Evaluation of EUV resists for 5nm technology node and beyond
相关领域
极紫外光刻
抵抗
多重图案
材料科学
平版印刷术
浸没式光刻
光刻胶
极端紫外线
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其它 |
期刊:International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018 作者:Toshiro Itani; Patrick P. Naulleau; Eric Hendrickx; Paolo A. Gargini; Kurt G. Ronse; et al 出版日期:2018 |
求助人 |
宁友灵 在
2022-05-09 16:12:57 发布,悬赏 10 积分
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