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 Growth studies and characterization of silicon nitride thin films deposited by alternating exposures to Si2Cl6 and NH3 相关领域
材料科学
薄膜
氮化硅
氮化物
硅
光电子学
表征（材料科学）
分析化学（期刊）
氮化硅
纳米技术
化学工程
沉积（地质）
溅射沉积
化学气相沉积
电介质
基质（水族馆）
等离子体增强化学气相沉积
图层（电子）
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| 其它 | 作者：K Park，WD Yun，BJ Choi，HD Kim，WJ Lee，SK Rha，OP Chong |
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