Realization of wafer-scale single-crystalline GaN film on CMOS-compatible Si(100) substrate by ion-cutting technique

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标题	Realization of wafer-scale single-crystalline GaN film on CMOS-compatible Si(100) substrate by ion-cutting technique 相关领域基质（水族馆）硅制作外延图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6641/abb073
DOI	10.1088/1361-6641/abb073 doi
其它	期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：Hangning Shi; Kai Huang; Fengwen Mu; Tiangui You; Qinghua Ren; et al 出版日期：2020
求助人	研友_Z7m7lL 在 2020-11-05 16:44:53 发布，悬赏 10 积分
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