| 标题 |
 Chemically-amplified backbone scission (CABS) resist for EUV lithography 相关领域
抵抗
极紫外光刻
聚合物
平版印刷术
材料科学
激光线宽
键裂
单体
光刻胶
光刻
高分子化学
化学工程
光电子学
纳米技术
化学
复合材料
光学
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工程类
物理
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| 其它 |
期刊：Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII 作者：Theodoros Manouras; Dimitrios Kazazis; Yasin Ekinci; Nelson M. Felix; Anna Lio 出版日期：2021 |
| 求助人 |
宁友灵 在
2022-05-09 15:22:49 发布，悬赏 10 积分
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