| 标题 |
 变温LPCVD沉积氮化硅薄膜的均匀性优化 相关领域
材料科学
沉积（地质）
抗压强度
残余应力
压力（语言学）
薄膜
复合材料
光学
大气（单位）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 | [1]任攀,魏明蕊,武鹏科,马少宇,刘贝贝,王尉,孙妍.变温LPCVD沉积氮化硅薄膜的均匀性优化（英文）[J].微纳电子技术,2021,58(03):271-277.DOI:10.13250/j.cnki.wndz.2021.03.013. |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
嗯哼
朝阳区李知恩
彭于彦祖
寻道图强
cannon8
现代青枫
Jenny
Leonardi
iNk
tuanheqi
面向杂志编论文
于芋菊
不配.
8R60d8
从容芮
自由可乐
坚强的严青
pcr163
宜醉宜游宜睡
皖公网安备34019202002308
