| 标题 |
 LPCVD of Silicon Nitride Films From Hexachlorodisilane and Ammonia 相关领域
材料科学
化学气相沉积
氮化物
氮化硅
硅
沉积（地质）
氨
等离子体增强化学气相沉积
化学工程
氮气
薄膜
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| DOI |
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| 其它 |
R. C. Taylor & B. A. Scot MRS Online Proceedings Library volume 105, pages319–324 (1987)Cite this article 10 Accesses 5 Citations Metrics |
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