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 High carrier mobility tungsten-doped indium oxide films prepared by reactive plasma deposition in pure argon and post annealing 相关领域
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Tian Gan; Jingmei Li; Lili Wu; Jingquan Zhang; Xia Hao; et al 出版日期：2022 |
| 求助人 |
花开米兰城 在
2022-03-23 10:13:52 发布，悬赏 10 积分
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