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[求助补充材料]
 Impact of precursor exposure on process efficiency and film properties in spatial atomic layer deposition 空间原子层沉积中前体暴露对工艺效率和薄膜性质的影响
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期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Việt Hương Nguyễn; Abderrahime Sekkat; Carmen Jiménez; D. Muñoz; Daniel Bellett; et al 出版日期：2021-01-01 |
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