Effect of fluorine incorporation on silicon dioxide prepared by high density plasma chemical vapor deposition with SiH4∕O2∕NF3 chemistry

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标题	Effect of fluorine incorporation on silicon dioxide prepared by high density plasma chemical vapor deposition with SiH4∕O2∕NF3 chemistry 掺氟对SiH4/O2/NF3高密度等离子体化学气相沉积二氧化硅的影响相关领域化学分析化学（期刊）化学气相沉积等离子体增强化学气相沉积 X射线光电子能谱硅氟二氧化硅薄膜退火（玻璃）椭圆偏振法红外光谱学化学工程材料科学纳米技术有机化学复合材料工程类
网址	https://doi.org/10.1063/1.1767979
DOI	10.1063/1.1767979 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Jae‐Hong Kim; Chai-O Chung; Dongsun Sheen; Yong-Sun Sohn; Hyunchul Sohn; et al 出版日期：2004-07-26
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