Role of hydrogen treatment on microstructural and opto-electrical properties of amorphous ITO thin films deposited by reactive gas-timing DC magnetron sputtering

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标题	Role of hydrogen treatment on microstructural and opto-electrical properties of amorphous ITO thin films deposited by reactive gas-timing DC magnetron sputtering 氢处理对反应气体定时直流磁控溅射沉积非晶ITO薄膜微结构和光电性能的影响相关领域材料科学溅射薄膜无定形固体分析化学（期刊）溅射沉积氢基质（水族馆）氧化铟锡薄板电阻纳米技术化学图层（电子）结晶学色谱法海洋学地质学有机化学
网址	https://doi.org/10.1007/s10854-017-6826-5
DOI	10.1007/s10854-017-6826-5 doi
其它	期刊：Journal of Materials Science Materials in Electronics 作者：Abdolnabi Kosarian; M. Shakiba; Ebrahim Farshidi 出版日期：2017-04-03
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