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标题
Theoretical analysis of thermal boundary conductance of MoS2-SiO2 and WS2-SiO2 interface
MoS 2-SiO2和WS 2-SiO2界面热边界电导的理论分析
相关领域
材料科学 声子 纳米电子学 电导 凝聚态物理 热导率 半导体 接口（物质） 热的 消散 电子设备和系统的热管理 纳米技术 热力学 光电子学 复合材料 物理 工程类 机械工程 毛细管作用 毛细管数
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6528/abd208
AI链接 arxiv.org arxiv.org nih.gov datacite.orgdoi.org
DOI
10.1088/1361-6528/abd208 doi
其它 期刊：Nanotechnology
作者：Zhun‐Yong Ong; Yongqing Cai; Gang Zhang; Yong‐Wei Zhang
出版日期：2020-12-10
求助人
蒋蒋 在 2024-11-20 12:50:23 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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