| 标题 |
 Universal scaling relationship for atomic layer etching 原子层刻蚀的通用比例关系
相关领域
离子
蚀刻（微加工）
材料科学
能量（信号处理）
图层（电子）
缩放比例
空格（标点符号）
化学
原子物理学
纳米技术
物理
计算机科学
几何学
数学
量子力学
操作系统
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Vacuum Science and Technology 作者：Keren J. Kanarik; Samantha Tan; Wenbing Yang; Ivan L. Berry; Pan Yang; et al 出版日期：2021-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
Polymer72
QDU
mhl11
VDC
带头大哥
tuanheqi
cocolu
乐乐乐乐乐乐
hhhblabla
一一
Yoanna_UTHSC
iNk
无名老大
HEIKU
pluto
子车茗
luoshi
我是站长才怪
Jack80
皖公网安备34019202002308
