Thermal annealing effects on the stress stability in silicon dioxide films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition

已完结

文献求助详情

标题	Thermal annealing effects on the stress stability in silicon dioxide films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition 热退火对等离子体增强化学气相沉积二氧化硅薄膜应力稳定性的影响相关领域等离子体增强化学气相沉积退火（玻璃）材料科学化学气相沉积硅氧气压力（语言学）热稳定性化学工程制作复合材料纳米技术光电子学化学哲学病理有机化学工程类替代医学医学语言学
网址	https://doi.org/10.1007/s00542-016-3005-1
DOI	10.1007/s00542-016-3005-1 doi
其它	期刊：Microsystem Technologies 作者：Jianyu Fu; Haiping Shang; Zhigang Li; Weibing Wang; Dapeng Chen 出版日期：2016-06-02
求助人	jy 在 2024-10-23 17:11:06 发布自广东，悬赏 10 积分
下载	该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。
	温馨提示：该文献已被科研通学术中心收录，前往查看科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。

上个求助

下个求助

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

关注科研痛点，打通你的七经六脉

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

更新

2024年影响因子查询已上线 (2024-6-20)

更新

大幅提高文件上传限制，最高150M (2024-4-1)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: Selvig发布了新的文献求助10

刚刚; 善学以致用上传了应助文件

2秒前; 李爱国上传了应助文件

3秒前; ding上传了应助文件

3秒前; 思源的应助被123采纳，获得10

5秒前; drwang发布了新的文献求助10

6秒前; Jiayee发布了新的文献求助10

7秒前; 彩色的德地发布了新的文献求助10

7秒前; liwj发布了新的文献求助10

9秒前; Singularity上传了应助文件

9秒前; 老肖的应助被捉住一只羊采纳，获得10

10秒前; drwang完成签到，获得积分10

12秒前; 科研通AI2S上传了应助文件

12秒前; 思源上传了应助文件

12秒前; WIK完成签到，获得积分10

13秒前; 123发布了新的文献求助10

18秒前; 共享精神的应助被罗拉采纳，获得10

19秒前; 李爱国上传了应助文件

19秒前; 穿风衣的猫完成签到，获得积分10

22秒前; IBMffff的应助被WIK采纳，获得10

22秒前; 英俊的铭的应助被WIK采纳，获得10

22秒前; WWXWWX的应助被WIK采纳，获得10

22秒前; 老肖上传了应助文件

22秒前; 小蘑菇上传了应助文件

24秒前; xms2022完成签到，获得积分10

24秒前; 潇洒的小鸽子完成签到，获得积分10

24秒前; hahaha发布了新的文献求助10

26秒前; 情怀上传了应助文件

28秒前; 小汤圆发布了新的文献求助10

29秒前; 幸福大白发布了新的文献求助10

29秒前; 科研通管家关闭了敢超的文献求助

29秒前; 并肩完成签到，获得积分10

29秒前; 1953完成签到，获得积分10

30秒前; 科研通AI2S的应助被科研通管家采纳，获得10

32秒前; 研友_VZG7GZ的应助被科研通管家采纳，获得10

32秒前; Owen的应助被科研通管家采纳，获得10

32秒前; Jasper的应助被科研通管家采纳，获得10

32秒前; 李健的应助被科研通管家采纳，获得20

32秒前; 科研通AI2S的应助被科研通管家采纳，获得10

32秒前; 在水一方的应助被科研通管家采纳，获得10

33秒前