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标题
Optimization of the CD Uniformity (CDU) in Silicon Oxide Spacer Process for 5 NM FIN SAQP Process Flow
5 NM鳍SAQP工艺流程中氧化硅间隔物工艺CD均匀性(CDU)的优化
相关领域
材料科学 化学气相沉积 多重图案 表面粗糙度 原子层沉积 表面光洁度 光电子学 硅 沉积（地质） 纳米技术 氧化物 鳍 临界尺寸 图层（电子） 光学 复合材料 抵抗 物理 冶金 古生物学 生物 沉积物
网址
https://doi.org/10.1109/cstic49141.2020.9282514
DOI
10.1109/cstic49141.2020.9282514 doi
其它 期刊：
作者：Qingqing Wu; Weihao Lin; Xiaoqiang Zhou; Jinhua Zhang; Jing Li; et al
出版日期：2020-06-26
求助人
梦醒心依然 在 2024-11-06 00:11:04 发布自广东，悬赏 10 积分
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