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Selective chemical wet etching of Si1-xGex versus Si in single-layer and multi-layer with HNO3/HF mixtures
HNO3/HF混合液对单层和多层Si1-xGex与Si的选择性化学湿法刻蚀
相关领域
蚀刻(微加工)
材料科学
各向同性腐蚀
图层(电子)
外延
反应离子刻蚀
干法蚀刻
纳米结构
光电子学
分析化学(期刊)
纳米技术
化学
色谱法
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期刊:Thin Solid Films 作者:Yongjoon Choi; Hyunchul Jang; Dae seop Byun; Dae Hong Ko 出版日期:2020-09-01 |
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