Electrical Characterization of BEOL Plasma-Induced Damage in Bulk FinFET Technology

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标题	Electrical Characterization of BEOL Plasma-Induced Damage in Bulk FinFET Technology 体FinFET技术中BEOL等离子体诱导损伤的电学表征相关领域跨导材料科学光电子学晶体管静电放电等离子体 PID控制器阈值电压电介质电气工程电压物理工程类量子力学热力学温度控制
网址	https://doi.org/10.1109/tdmr.2018.2881740
DOI	10.1109/tdmr.2018.2881740 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Device and Materials Reliability 作者：Gaspard Hiblot; A. Subirats; Yefan Liu; Geert Van der Plas 出版日期：2018-11-16
求助人	放平心态在 2025-03-09 22:05:36 发布自四川，悬赏 10 积分
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