Ferroelectric deep trench capacitors based on Al:HfO2 for 3D nonvolatile memory applications

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标题	Ferroelectric deep trench capacitors based on Al:HfO2 for 3D nonvolatile memory applications 用于三维非易失性存储器的Al：HfO2铁电深沟电容器相关领域铁电性电容器材料科学沟槽光电子学纳米技术电气工程电介质工程类电压图层（电子）
网址	https://ieeexplore.ieee.org/document/6849367
DOI	10.1109/IMW.2014.6849367 doi
求助人	坤坤在 2025-03-05 20:16:33 发布自河北，悬赏 10 积分
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