标题 |
Passivation Kinetics of 1,2,4-Triazole in Copper Chemical Mechanical Polishing
1,2,4-三唑在铜化学机械抛光中的钝化动力学
相关领域
钝化
材料科学
铜
计时安培法
腐蚀
苯并三唑
电化学
化学机械平面化
极化(电化学)
无机化学
抛光
化学工程
冶金
电极
纳米技术
化学
物理化学
图层(电子)
循环伏安法
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:ECS journal of solid state science and technology 作者:Liang Jiang; Yongyong He; Jing Li; Jianbin Luo 出版日期:2016-01-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|