High-density plasma chemical vapor deposition of silicon-based dielectric films for integrated circuits

已完结

文献求助详情

标题	High-density plasma chemical vapor deposition of silicon-based dielectric films for integrated circuits 集成电路用硅基介质膜的高密度等离子体化学气相沉积相关领域化学气相沉积化学机械平面化材料科学电介质硅制作集成电路电子线路沉积（地质）光电子学等离子体过程（计算）等离子体增强化学气相沉积纳米技术工程物理电气工程计算机科学图层（电子）工程类病理古生物学物理操作系统生物替代医学医学量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1147/rd.431.0109
DOI	10.1147/rd.431.0109 doi
其它	期刊：IBM journal of research and development 作者：S. Nguyen 出版日期：1999-01-01
求助人	hh 在 2024-09-25 14:45:01 发布自北京，悬赏 10 积分
下载	该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。
	温馨提示：该文献已被科研通学术中心收录，前往查看科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。

上个求助

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

老实憨厚无套路，服务科研追梦人

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: djdh完成签到，获得积分10

1秒前; ZC完成签到，获得积分10

1秒前; ying完成签到，获得积分10

1秒前; 大胆初蓝完成签到，获得积分10

3秒前; 十三完成签到，获得积分10

4秒前; 严惜发布了新的文献求助10

4秒前; advance完成签到，获得积分10

6秒前; peng完成签到，获得积分10

8秒前; Migrol完成签到，获得积分10

8秒前; 大气的雁桃完成签到，获得积分10

12秒前; 上官若男的应助被xxxxx采纳，获得10

12秒前; 只影有你完成签到，获得积分10

12秒前; 努力向上的小刘完成签到，获得积分10

13秒前; 烟花上传了应助文件

14秒前; lalaheilala完成签到，获得积分10

16秒前; 大个的应助被WC采纳，获得10

16秒前; 激情的含巧完成签到，获得积分10

17秒前; llinuu完成签到，获得积分10

18秒前; 芝士完成签到，获得积分10

18秒前; CodeCraft的应助被yszm采纳，获得10

19秒前; 爱笑半雪完成签到，获得积分10

20秒前; 三侠完成签到，获得积分10

20秒前; 机灵石头完成签到，获得积分10

20秒前; 爱学习棒棒糖完成签到，获得积分10

21秒前; 问津发布了新的文献求助10

22秒前; 田様上传了应助文件

22秒前; 上官若男上传了应助文件

23秒前; 扣脚盟完成签到，获得积分10

23秒前; vkl完成签到，获得积分10

25秒前; LYZSh完成签到，获得积分10

25秒前; 小羊完成签到，获得积分10

25秒前; 吴必胜完成签到，获得积分10

25秒前; yy的应助被安安采纳，获得20

26秒前; 啦啦啦发布了新的文献求助10

27秒前; xxxxx发布了新的文献求助10

28秒前; xu完成签到，获得积分10

28秒前; 36456657的应助被科研通管家采纳，获得10

28秒前; jjyy的应助被科研通管家采纳，获得10

28秒前; 英姑的应助被科研通管家采纳，获得10

28秒前; 满意的盼夏的应助被科研通管家采纳，获得10

28秒前