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 Incorporation of OH radicals in anodic silicon oxide films studied by secondary-ion mass spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and ir analysis 二次离子谱、X射线光电子能谱和IR分析研究阳极氧化硅膜中OH自由基的掺入
相关领域
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期刊：Thin Solid Films 作者：I. Montero; Liberto de Pablo Galán; E. de la Cal; J. M. Albella; J.C. Pivin 出版日期：1990-01-01 |
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