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标题
P-type nickel oxide deposited by reactive hollow cathode gas flow sputtering for the potential usage in thin-film transistors
反应空心阴极气流溅射沉积P型氧化镍在薄膜晶体管中的潜在应用
相关领域
薄膜 材料科学 溅射 溅射沉积 光电子学 阴极 薄膜晶体管 脉冲激光沉积 分析化学(期刊) 图层(电子) 纳米技术 化学 冶金 物理化学 色谱法
网址
DOI
10.1016/j.tsf.2023.139887 doi
其它 期刊:Thin Solid Films
作者:Bertwin Bilgrim Otto Seibertz; Bernd Szyszka
出版日期:2023-05-17
求助人
清新的沛蓝 在 2025-03-19 22:00:31 发布自山西,悬赏 10 积分
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