| 标题 |
 Effects of Oximes on the Electrodeposition of Cobalt for Interconnect Applications 氧化烯对互连应用中钴电沉积的影响
相关领域
钴
计时安培法
材料科学
循环伏安法
电化学
铜
半导体
化学工程
化学
电极
冶金
光电子学
物理化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者：T. W. Lyons; Qiang Huang 出版日期：2017-04-15 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
个性的紫菜
苏卿
oceanao
pcr163
HEIKU
寻道图强
嗯哼
Yziii
彭于彦祖
干净的时光
竹筏过海
yufanhui
不懈奋进
哎嘿
去火星种一颗芋头
爱静静
starofjlu
加湿器
不配.
菠菜
皖公网安备34019202002308
