| 标题 |
 Surface sulfurization of amorphous carbon films in the chemistry of oxygen plasma added with SO2 or OCS for high-aspect-ratio etching 高纵横比刻蚀中SO2或OCS氧等离子体化学中非晶碳膜的表面硫化
相关领域
X射线光电子能谱
蚀刻（微加工）
氧气
碳纤维
羰基硫醚
化学
硫黄
无定形碳
无定形固体
等离子体
分析化学（期刊）
化学工程
材料科学
环境化学
结晶学
有机化学
图层（电子）
复合材料
复合数
物理
量子力学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Kenji Ishikawa; Thi‐Thuy‐Nga Nguyen; Yuta Aoki; Hiroyasu Sato; Junichi Kawakami; et al 出版日期：2024-02-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
嘉心糖
杳鸢
Billy
模糊中正
YifanWang
tuanheqi
pcr163
Marciu33
年轻新晴
子车茗
andrele
自由一一
大模型
野性的柠檬
嗯哼
jyy
海风
0905
fcf335gj
皖公网安备34019202002308
