A special electrostatic self-assembly structure of colloidal silica: Improving Chemical Mechanical Polishing performance

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标题	A special electrostatic self-assembly structure of colloidal silica: Improving Chemical Mechanical Polishing performance 一种特殊的胶体二氧化硅静电自组装结构：提高化学机械抛光性能相关领域材料科学化学机械平面化表面改性 X射线光电子能谱胶体二氧化硅磨料化学工程抛光薄脆饼扫描电子显微镜吸附表面粗糙度胶体纳米技术涂层复合材料有机化学化学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2024.108169
DOI	10.1016/j.mssp.2024.108169 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Xianglong Zhang; Xianghui Li; Ni Meng; Shulun Nie; Yuxuan Qiu; et al 出版日期：2024-01-31
求助人	Lee 在 2024-10-08 10:28:40 发布自浙江，悬赏 10 积分
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