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 Characteristics of HfO2 thin films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition using O2 plasma and N2O plasma O2等离子体和N2O等离子体增强原子层沉积HfO2薄膜的特性
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Seokhoon Kim; Jin-Woo Kim; Jihoon Choi; Hyunseok Kang; Hyeongtag Jeon; et al 出版日期：2006-04-21 |
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