标题 |
Monte Carlo study of a 50 nm-dual-gate HEMT providing against short-channel effects
50 nm双栅HEMT抗短沟道效应的蒙特卡罗研究
相关领域
高电子迁移率晶体管
蒙特卡罗方法
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期刊:Solid-State Electronics 作者:P. Dollfus; P. Hesto 出版日期:1993-05-01 |
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