Monte Carlo study of a 50 nm-dual-gate HEMT providing against short-channel effects

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作者
P. Dollfus,P. Hesto
出处
期刊:Solid-state Electronics [Elsevier]
卷期号:36 (5): 711-715 被引量:16
标识
DOI:10.1016/0038-1101(93)90239-m

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