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 Instability of SiO2 Film Caused by Fluorine and Chlorine Inclusion 氟、氯夹杂对SiO2膜不稳定性的影响
相关领域
氯
氟
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Takafumi Nakanishi; T. Kawamoto; Kanetake Takasaki 出版日期：1998-08-01 |
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