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 Selective etching mechanism of silicon oxide against silicon by hydrogen fluoride: a density functional theory study 氟化氢选择性刻蚀氧化硅机理的密度泛函理论研究
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期刊：Physical Chemistry Chemical Physics 作者：Romel Hidayat; Hye-Lee Kim; Khabib Khumaini; Tanzia Chowdhury; Tirta Rona Mayangsari; et al 出版日期：2023-01-01 |
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