Effect of a novel surfactant on performance of chemical-mechanical polishing solution used for copper with low abrasive content

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标题	Effect of a novel surfactant on performance of chemical-mechanical polishing solution used for copper with low abrasive content 新型表面活性剂对低磨料铜化学机械抛光液性能的影响相关领域抛光化学机械平面化肺表面活性物质表面张力铜粘度磨料表面粗糙度材料科学化学冶金复合材料物理热力学生物化学
网址	https://en.cnki.com.cn/Article_en/CJFDTOTAL-DDTL201408004.ht...
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
其它	期刊：Electroplating & Finishing 作者：Ya Li 出版日期：2014-01-01
求助人	zhou 在 2025-01-13 21:58:21 发布自浙江，悬赏 10 积分
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