Chemical Vapour Deposition. Precursors, Processes and Applications. Edited by Anthony C. Jones and Michael L. Hitchman

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标题	Chemical Vapour Deposition. Precursors, Processes and Applications. Edited by Anthony C. Jones and Michael L. Hitchman 相关领域迈克尔反应化学高分子科学有机化学催化作用
网址	https://doi.org/10.1002/anie.200903570
DOI	10.1002/anie.200903570 doi
其它	期刊：Angewandte Chemie 作者：Graziella Malandrino 出版日期：2009-09-28
求助人	千年不老泉在 2023-07-28 21:41:06 发布自澳大利亚，悬赏 10 积分
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