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标题
Atomistic insights into chemical vapor deposition process of preparing silicon carbide materials using ReaxFF-MD simulation
使用ReaxFF-MD模拟制备碳化硅材料的化学气相沉积过程的原子洞察
相关领域
雷亚克夫 化学气相沉积 碳化硅 材料科学 分子动力学 碳化物 纳米技术 化学工程 计算化学 化学 冶金 工程类 原子间势
网址
DOI
10.1016/j.commatsci.2024.113032 doi
其它 期刊:Computational Materials Science
作者:Zefan Yan; Yu Tian; Rongzheng Liu; Bing Liu; Youlin Shao; et al
出版日期:2024-04-23
求助人
昵称未命名 在 2025-04-21 06:54:43 发布自美国,悬赏 10 积分
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