High-Resolution Patterning of Breathable Polymer Nanomesh via Double-Side UV Exposure for Fabricating Micropatterned Wearable Devices

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标题	High-Resolution Patterning of Breathable Polymer Nanomesh via Double-Side UV Exposure for Fabricating Micropatterned Wearable Devices 用于制造微图案化可穿戴设备的通过双面紫外线曝光的透气聚合物纳米网的高分辨率图案化相关领域纳米网材料科学纳米技术聚合物可穿戴技术可穿戴计算机高分辨率光电子学石墨烯计算机科学嵌入式系统复合材料遥感地质学
网址	https://doi.org/10.1021/acsnano.4c18934
DOI	10.1021/acsnano.4c18934 doi
其它	期刊：ACS Nano 作者：Jihoon Bae; Chong‐Myeong Song; Sathish Kumar Ponnaiah; Guk-Song Jang; Hyeokjoo Choi; et al 出版日期：2025-04-23
求助人	颜靖仇在 2025-04-28 12:24:24 发布自广东，悬赏 10 积分
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