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 <title>Design of PACs for high-performance photoresists (II): effect of number and orientation of DNQs and -OH of PACs on lithographic performances</title> < title > 高性能 光刻 胶 用 PACs 的 设计 （ 二 ） ： PACs DNQ 和 -OH 的 数量 和 取向 对 光刻 性能 的 影响 < /title >
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Ryotaro Hanawa; Yasunori Uetani; Makoto Hanabata 出版日期：1993-09-15 |
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