标题 |
Chemical conversion of MoS2 thin films deposited by atomic layer deposition (ALD) into molybdenum nitride monitored by in situ reflectance measurements
通过原位反射测量监测原子层沉积(ALD)沉积的MoS2薄膜向氮化钼的化学转化
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Julien Patouillard; R. Gassilloud; F. Mercier; A. Mantoux; R. Boichot; et al 出版日期:2023-07-31 |
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