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 Homoepitaxy Growth of High‐Quality AlN Film on MOCVD AlN Template by Hydride Vapor Phase Epitaxy 氢化物气相外延在MOCVD AlN模板上同质外延生长高质量AlN薄膜
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期刊：Physica status solidi. B, Basic research 作者：Chunpeng Li; Xiaodong Gao; Xiaodan Wang; Xian-Zi Dong; Xiandong Zeng; et al 出版日期：2023-02-09 |
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