Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process

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标题	Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process 原子层沉积的表面化学：以三甲基铝/水过程为例相关领域原子层沉积化学纳米技术沉积（地质）图层（电子）材料科学沉积物生物古生物学
网址	https://doi.org/10.1063/1.1940727
DOI	10.1063/1.1940727 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Riikka L. Puurunen 出版日期：2005-06-15
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