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 In situ atom-resolved observation of Si (111) 7×7 surface with F radical and Ar ion irradiation simulated atomic layer etching F自由基和氦离子照射Si（111）7 x 7表面模拟原子层腐蚀的原位原子分辨观察
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Takayoshi Tsutsumi; Atsuki Asano; Hiroki Kondo; Kenji Ishikawa; Makoto Sekine; et al 出版日期：2024-04-26 |
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