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 Structural and morphological properties of CeO2 films deposited by radio frequency magnetron sputtering for back-end-of-line integration 用于后端集成的射频磁控溅射CeO2薄膜的结构和形貌特性
相关领域
溅射沉积
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期刊：Thin Solid Films 作者：Ahsan Hayat; Markus Ratzke; Carlos Alvarado Chavarin; Marvin Hartwig Zoellner; Agnieszka Anna Corley-Wiciak; et al 出版日期：2024-10-01 |
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