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Structural and morphological properties of CeO2 films deposited by radio frequency magnetron sputtering for back-end-of-line integration

溅射沉积 材料科学 直线（几何图形） 无线电频率 腔磁控管 溅射 光电子学 矿物学 薄膜 化学 纳米技术 电信 工程类 几何学 数学
作者
Ahsan Hayat,Markus Ratzke,Carlos Alvarado Chavarin,Marvin Hartwig Zoellner,Agnieszka Anna Corley-Wiciak,Markus Andreas Schubert,Christian Wenger,I. A. Fischer
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier]
日期：2024-10-01 卷期号：807: 140547-140547
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2024.140547
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