Investigation of the influence of hardmask morphology on bowing effect in nano-scale silicon plasma etching process

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标题	Investigation of the influence of hardmask morphology on bowing effect in nano-scale silicon plasma etching process 纳米硅等离子体刻蚀过程中硬掩模形貌对弯曲效应影响的研究相关领域鞠躬蚀刻（微加工）材料科学等离子体刻蚀纳米技术哲学神学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.3009955
DOI	10.1117/12.3009955 doi
其它	期刊：作者：Ziyi Hu; Junjie Li; Hua Shao; Rui Chen; Yayi Wei 出版日期：2024-02-23
求助人	芬里尔在 2024-11-14 11:49:26 发布自上海，悬赏 20 积分
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