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标题
Enhancing AC stress stability in amorphous indium gallium zinc oxide thin-film transistors via controlled hydrogen diffusion
通过控制氢扩散提高非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管的交流应力稳定性
相关领域
材料科学 薄膜晶体管 镓 无定形固体 退火（玻璃） 钝化 铟 氢 原子层沉积 锌 氧化物 光电子学 压力（语言学） 薄膜 图层（电子） 化学工程 冶金 纳米技术 结晶学 化学 语言学 哲学 有机化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1039/d4tc04399e
DOI
10.1039/d4tc04399e doi
其它 期刊：Journal of Materials Chemistry C
作者：Jae-Sung Kim; Seonggeun Kim; Hyun Jae Kim; Sangwan Kim; Dongil Ho; et al
出版日期：2025-01-01
求助人
安详的甜瓜 在 2025-02-21 15:56:07 发布自河北，悬赏 10 积分
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