Growth of Highly‐Ordered‐Crystalline Indium‐Gallium‐Oxide Thin‐Film via Plasma‐Enhanced ALD for High Performance Top‐Gate Field‐Effect Transistors

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标题	Growth of Highly‐Ordered‐Crystalline Indium‐Gallium‐Oxide Thin‐Film via Plasma‐Enhanced ALD for High Performance Top‐Gate Field‐Effect Transistors 用于高性能顶栅场效应晶体管的等离子体增强ALD生长高度有序晶体氧化铟镓薄膜相关领域材料科学铟光电子学镓薄膜晶体管等离子体晶体管氧化物氧化镓纳米技术电气工程图层（电子）冶金工程类物理量子力学电压
网址	https://doi.org/10.1002/smtd.202402070 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1002/smtd.202402070 doi
其它	期刊：Small Methods 作者：Min Jae Kim; Seon Woong Bang; Jae Seok Hur; Seong Hun Yoon; Cheol Hee Choi; et al 出版日期：2024-12-30
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