| 标题 |
 Contact local CD uniformity optimization through etch shrink 通过蚀刻收缩优化接触局部CD均匀性
相关领域
抵抗
材料科学
薄脆饼
生产线后端
平版印刷术
腐蚀坑密度
多重图案
光刻
电介质
光刻胶
堆栈（抽象数据类型）
沉积（地质）
缩放比例
原子层沉积
临界尺寸
纳米技术
蚀刻（微加工）
光电子学
计算机科学
图层（电子）
光学
古生物学
物理
程序设计语言
几何学
生物
数学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE) Conference Series 作者：Eric R. Miller; Junling Sun; Jennifer Church; Xinghua Sun; Angelique Raley 出版日期：2021-02-26 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
寻道图强
随机子
爱静静
shinysparrow
InfoNinja
竹筏过海
吃不饱星球球长
穆紫
misha991
沸腾的大海
加菲丰丰
oceanao
iWatchTheMoon
Puan
jyy
Migue
贰鸟
清脆松
积极慕梅
科目三
皖公网安备34019202002308
