Highly effective electronic passivation of silicon surfaces by atomic layer deposited hafnium oxide

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标题	Highly effective electronic passivation of silicon surfaces by atomic layer deposited hafnium oxide 原子层沉积氧化铪对硅表面的高效电子钝化相关领域钝化材料科学结晶度退火（玻璃）硅原子层沉积晶体硅形成气体氧化物铪薄膜分析化学（期刊）图层（电子）光电子学纳米技术冶金复合材料化学锆色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/1.4973988
DOI	10.1063/1.4973988 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Jie Cui; Yimao Wan; Yanfeng Cui; Yifeng Chen; Pierre Verlinden; et al 出版日期：2017-01-09
求助人	娇气的迎松在 2025-03-31 21:23:12 发布自江苏，悬赏 10 积分
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